TY - JOUR A1 - Thielemann, Frank A1 - Schaffner, M. T1 - Innovationswiderstände bei der Einführung neuer Tech­nologien. Schaffner, M.; Thielemann, F. JF - Deutscher Drucker. 1992/93 (1993), H. 42 Y1 - 1993 SN - 0012-1096 SP - g15 EP - ff ER - TY - JOUR A1 - Thielemann, Frank A1 - Schaffner, M. T1 - Wie beurteilen die Führungskräfte der Branche den derzeitigen und zukünftigen Innovationsdruck? Expertenmeinung zum Thema Innovationen in der Druckindustrie: M. Schaffner, F. Thielemann JF - Management im innovatorischen Wandel : Arbeit und Technik in der Druckindustrie / Heinz-Reiner Treichel ; Kurt-Georg Ciesinger Y1 - 1993 SN - 3-87641-262-5 N1 - Inhaltsverzeichnis SP - 21 EP - 26 PB - Polygraph-Verl. CY - Frankfurt am Main ER - TY - JOUR A1 - Walther, T. A1 - Gerthsen, D. A1 - Carius, Reinhard A1 - Förster, Arnold T1 - AlAs/GaAs Quantum well structures: Interface properties investigated by high-resolution transmission electron microscopy and photoluminescence spectroscopy / T. Walther ; D. Gerthsen ; R. Carius ; A. Förster ... JF - Microscopy of semiconducting materials 1993 : proceedings of the Royal Microscopical Society Conference held at Oxford University, 5 - 8 April 1993 / ed. by A. G. Cullis ... - (Conference series / Institute of Physics ; 134) Y1 - 1993 SN - 0-7503-0290-9 N1 - Royal Microscopical Society Conference on Microscopy of Semiconducting Materials <8, 1993, Oxford> ; MSM <8, 1993, Oxford> SP - 449 EP - ff. PB - Institute of Physics CY - Bristol [u.a.] ER -