TY - CHAP A1 - Stender, Michael A1 - Ritz, Thomas T1 - Modeling of business-to-business mobile commerce processes T2 - Electronic proceedings / ICPR 17, 17th International Conference on Production Research [Blacksburg, Virginia, USA, August 3 - 7, 2003] Y1 - 2003 SN - 0-9721257-3-6 CY - Blacksburg, Va. ET - CD-ROM-Ausg. ER - TY - CHAP A1 - Kern, Alexander T1 - Abschätzung des Blitzschadensrisikos für bauliche Anlagen - Die neue Bestimmung DIN V VDE V 0185 Teil 2 : 2002 - Allgemeines, Abschätzungsverfahren, Berechnungsbeispiele N2 - Ein vorausschauendes Risikomanagement beinhaltet, Risiken für das Unternehmen zu kalkulieren. Es liefert Entscheidungsgrundlagen, um diese Risiken zu begrenzen und es macht transparent, welche Risiken sinnvollerweise über Versicherungen abgedeckt werden sollten. Beim Versicherungsmanagement ist jedoch zu bedenken, dass zur Erreichung bestimmter Ziele Versicherungen nicht immer geeignet sind (z.B. Erhaltung der Lieferfähigkeit). Eintrittswahrscheinlichkeiten bestimmter Risiken lassen sich durch Versicherungen nicht verändern. Bei Unternehmen, die mit umfangreichen elektronischen Einrichtungen produzieren oder Dienstleistungen erbringen (und das sind heutzutage wohl die meisten), muss auch das Risiko durch Blitzeinwirkungen besondere Berücksichtigung finden. Dabei ist zu beachten, dass der Schaden aufgrund der Nicht-Verfügbarkeit der elektronischen Einrichtungen und damit der Produktion bzw. der Dienstleistung und ggf. der Verlust von Daten den Hardware-Schaden an der betroffenen Anlage oft bei weitem übersteigt. Im Blitzschutz gewinnt innovatives Denken in Schadensrisiken langsam an Bedeutung. Risikoanalysen haben die Objektivierung und Quantifizierung der Gefährdung von baulichen Anlagen und ihrer Inhalte durch direkte und indirekte Blitzeinschläge zum Ziel. Seinen Niederschlag hat dieses neue Denken in der neuen deutschen Vornorm DIN V 0185-2 VDE V 0185 Teil 2 [1] gefunden. Die hier vorgegebene Risikoanalyse gewährleistet, dass ein für alle Beteiligten nachvollziehbares Blitzschutz-Konzept erstellt werden kann, das technisch und wirtschaftlich optimiert ist, d.h. bei möglichst geringem Aufwand den notwendigen Schutz gewährleisten kann. Die sich aus der Risikoanalyse ergebenden Schutzmaßnahmen sind dann in den weiteren Normenteilen der neuen Reihe VDE V 0185 [2, 3] detailliert beschrieben. KW - Blitzschutz KW - Risikomanagement KW - Risikoabschätzung KW - Lightning protection KW - Risk management KW - Risk assessment Y1 - 2003 ER - TY - CHAP A1 - Merten, Sabine A1 - Kämper, Klaus-Peter A1 - Brill, Manfred A1 - Picard, Antoni A1 - Cassel, Detlev A1 - Jentsch, Andreas A1 - Rollwa, Markus T1 - Virtuelle Sensor-Fertigung: Hightech mit LabVIEW N2 - Eine neue Generation von Praktika an Hochschulen wächst heran. Moderne Wege beim Verstehen und Erlernen naturwissenschaftlicher Zusammenhänge sowie industrieller Fertigungsprozesse sind gefordert. Das Technologiepraktikum „Virtuelle Sensor- Fertigung“, entwickelt im Verbundprojekt INGMEDIA an den Fachhochschulen Aachen und Zweibrücken, trägt als neuartiges Lern- und Lehrmodul dieser Forderung Rechnung. Die Studierenden lernen einen vollständigen Fertigungsprozess mit Hilfe von virtuellen, in LabVIEW programmierten Maschinen kennen, bevor sie die reale Prozesskette im Reinraum durchführen. N2 - A new generation of university laboratory courses is presently being developed. Modern concepts for the understanding and learning of applied science and industrial fabrication processes are required. The technology course “Fabrication of a microsensor”, developed by the Universities of Applied Sciences Aachen and Zweibrücken in the joint research project INGMEDIA, represents a new approach towards education in high technology production. The students learn the operation of the complex microfabrication line with the help of virtual fabrication machines, programmed in LabVIEW, before they perform the actual process in a genuine clean room. KW - LabVIEW KW - Virtuelle Sensor-Fertigung KW - Fertigungsprozess KW - virtuelle Maschinen KW - virtual sensor fabrication KW - manufacturing process KW - virtual KW - virtual machines Y1 - 2003 ER - TY - CHAP A1 - Merten, Sabine A1 - Kämper, Klaus-Peter A1 - Brill, Manfred A1 - Picard, Antoni A1 - Cassel, Detlev A1 - Jentsch, Andreas A1 - Rollwa, Markus T1 - Vom virtuellen Wafer zum realen Drucksensor N2 - Das Technologiepraktikum „Virtuelle Sensor-Fertigung“ ist ein Beispiel für die medientechnische Aufbereitung von Lern- und Lehrmaterial unter didaktischen Gesichtspunkten. Studierende lernen einen Fertigungsprozess mit Hilfe von virtuellen Maschinen kennen, bevor sie die reale Prozesskette im Laborpraktikum im Reinraum durchführen. N2 - The technology course “Fabrication of a microsensor” represents a multimediabased approach towards education in high technology production in consideration of didactical aspects. The students learn the operation of a complex microfabrication line with the help of virtual fabrication machines before they perform the actual process in a hands-on training in an actual clean room. KW - Virtuelle Maschine KW - VM KW - Virtuelle Sensor-Fertigung KW - virtual fabrication of a microsensor Y1 - 2003 ER - TY - CHAP A1 - Staat, Manfred T1 - Design by Analysis of Pressure Components by non-linear Optimization N2 - This paper presents the direct route to Design by Analysis (DBA) of the new European pressure vessel standard in the language of limit and shakedown analysis (LISA). This approach leads to an optimization problem. Its solution with Finite Element Analysis is demonstrated for some examples from the DBA-Manual. One observation from the examples is, that the optimisation approach gives reliable and close lower bound solutions leading to simple and optimised design decision. KW - Analytischer Zulaessigkeitsnachweis KW - FEM KW - Einspiel-Analyse KW - design-by-analysis KW - finite element analysis KW - limit and shakedown analysis Y1 - 2003 ER - TY - CHAP A1 - Kraft, Bodo A1 - Nagl, Manfred T1 - Support of Conceptual Design in Civil Engineering by Graph-based Tools N2 - WS GTaD-2003 - The 1st Workshop on Graph Transformations and Design ed Grabska, E., Seite 6-7, Jagiellonian University Krakow. 2 pages KW - CAD KW - CAD KW - Bauingenieurwesen KW - CAD KW - civil engineering Y1 - 2003 ER - TY - CHAP A1 - Kraft, Bodo A1 - Nagl, Manfred T1 - Semantic tool support for conceptual design N2 - ITCE-2003 - 4th Joint Symposium on Information Technology in Civil Engineering ed Flood, I., Seite 1-12, ASCE (CD-ROM), Nashville, USA In this paper we discussed graph based tools to support architects during the conceptual design phase. Conceptual Design is defined before constructive design; the used concepts are more abstract. We develop two graph based approaches, a topdown using the graph rewriting system PROGRES and a more industrially oriented approach, where we extend the CAD system ArchiCAD. In both approaches, knowledge can be defined by a knowledge engineer, in the top-down approach in the domain model graph, in the bottom-up approach in the in an XML file. The defined knowledge is used to incrementally check the sketch and to inform the architect about violations of the defined knowledge. Our goal is to discover design error as soon as possible and to support the architect to design buildings with consideration of conceptual knowledge. KW - CAD KW - CAD KW - Bauingenieurwesen KW - CAD KW - civil engineering Y1 - 2003 ER - TY - CHAP A1 - Digel, Ilya A1 - Temiz Artmann, Aysegül A1 - Nojima, H. A1 - Artmann, Gerhard T1 - Plasma-generated cluster ions' effects on indoor microflora : [abstract] N2 - Recently, SHARP corporation has developed the world’s first "Plasma Cluster Ions® (PCI)" air purification technology, which uses plasma discharge to generate cluster ions. The new Plasma Cluster Device releases positive and negative ions into the air, which are harmless to humans and are able to decompose and deactivate airborne substances by chemical reactions. In the past, phenomenological tests on the efficacy of the PCI air purification technology on microbial cells have been conducted. In most cases, it has been shown that PCI demonstrated strongly pronounced killing effects on microorganisms. However, the particular mechanisms of PCI action still have to be uncovered. KW - Clusterion KW - Raumluft KW - Luftreiniger KW - Plasmacluster ion technology KW - Air purification Y1 - 2003 ER - TY - CHAP A1 - Digel, Ilya A1 - Temiz Artmann, Aysegül A1 - Artmann, Gerhard A1 - Nojima, H. T1 - Plasma cluster ions (PCI) influence on microbial cells viability : [abstract] N2 - Recently, SHARP corporation has developed the world’s first “Plasma Cluster Ions (PCI)” air purification technology, which uses plasma discharge to generate cluster ions. The new plasma cluster device releases into the air positive and negative ions, which are harmless to humans and are able to decompose and deactivate airborne substances by chemical reactions. A lot of phenomenological tests of the PCI air purification technology on microbial cells have been conducted. And, in most cases, it has been shown that PCI demonstrate strongly pronounced killing effect. Although, the particular mechanisms of PCI action are still not evident. We studied variations in resistance to PCI among gram-positive airborne microorganisms, as well as some dose-dependent, spatial, cultural and biochemical properties of PCI action in respect of Staphylococcus spp, Enterococcus spp, Micrococcus spp. KW - Clusterion KW - Raumluft KW - Luftreiniger KW - Plasmacluster ion technology KW - Air purification Y1 - 2003 ER - TY - CHAP A1 - Digel, Ilya A1 - Temiz Artmann, Aysegül A1 - Nojima, H. A1 - Artmann, Gerhard T1 - Effects of plasma generated ions on bacteria : [poster] N2 - Summary and Conclusions PCIs were clearly effective in terms of their antibacterial effects with the strains tested. This efficacy increased with the time the bacteries were exposed to PCIs. The bactericidal action has proved to be irreversible. PCIs were significantly less effective in shadowed areas. PCI exposure caused multiple protein damages as observed in SDS PAGE studies. There was no single but multiple molecular mechanism causing the bacterial death. KW - Clusterion KW - Bakterien KW - plasma generated ions Y1 - 2003 ER -