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Microstructured Nanostructures – nanostructuring by means of conventional photolithography and layer-expansion technique

  • A new and simple method for nanostructuring using conventional photolithography and layer expansion or pattern-size reduction technique is presented, which can further be applied for the fabrication of different nanostructures and nano-devices. The method is based on the conversion of a photolithographically patterned metal layer to a metal-oxide mask with improved pattern-size resolution using thermal oxidation. With this technique, the pattern size can be scaled down to several nanometer dimensions. The proposed method is experimentally demonstrated by preparing nanostructures with different configurations and layouts, like circles, rectangles, trapezoids, “fluidic-channel”-, “cantilever”- and meander-type structures.

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Verfasserangaben:Johannes Platen, Arshak PoghossianORCiD, Michael Josef SchöningORCiD
URN:urn:nbn:de:hbz:a96-opus-1477
DOI:https://doi.org/10.21269/117
Dokumentart:Konferenzveröffentlichung
Sprache:Englisch
Erscheinungsjahr:2006
Veröffentlichende Institution:Fachhochschule Aachen
Beteiligte Körperschaft:International Symposium on Sensor Science, I3S 2005 <3; 2005; Juelich, Germany>
Datum der Publikation (Server):22.05.2006
Freies Schlagwort / Tag:Nanostructuring; layer expansion; pattern-size reduction; self-aligned patterning
GND-Schlagwort:Biosensor
Quelle:http://www.mdpi.org/sensors/papers/s6040361.pdf
Fachbereiche und Einrichtungen:FH Aachen / Fachbereich Medizintechnik und Technomathematik
FH Aachen / INB - Institut für Nano- und Biotechnologien
DDC-Klassifikation:5 Naturwissenschaften und Mathematik / 57 Biowissenschaften; Biologie / 570 Biowissenschaften; Biologie
collections:FH Aachen / International Symposium on Sensor Science, I3S 2005 <3; 2005; Ju